原子层沉积系统

ALD Vacuum Coating System

采用内外双腔结构设计，优化的辐射加热系统，温度均匀性高；气流优化设计结合前驱体瓶加热，管路加热，不仅可以实现平板基体上膜厚的均匀性沉积，也适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现微纳深孔内部的均匀沉积。可用于半导体器，MEMS器件先进电池材料，催化材料研究。