等离子样品处理仪

Plasma Sample Processor


对材料表面进行氢、氧、氮等离子体活化处理,改变材料的粘附性、相容性和浸润性,还可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。

等离子样品处理仪

产品特点

  • 占地空间小且具有高空间利用率和便携性,易于移动
  • 真空室采用铝合金材质,前开门结构,真空室门搭载4英寸样品载物台,方便样品取放
  • 射频电源可实现即时启辉,具有射频自动匹配,自动控制气体流量功能
  • 人性化操作界面,易操作及维护,全程工艺可控,可在线设置、修改、监控各种工艺参数,可随时调用气体配方等记录

产品参数

  • 产品型号:MINI-P4
  • 极限真空:≤5×10-1Pa
  • 样品尺寸:≤4英寸,样品厚度≤10mm
  • 离子源类型:ICP-25电感耦合离子源
  • 射频输出:0~100W,连续可调节
  • 即时启辉:具有射频自动匹配,自动控制气体流量功能
  • 电源类型:220V、13.56MHz
  • 质量流量计:100mL/min