QY-CVD系列化学气相沉积系统是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。
真空镀膜解决方案
化学气相沉积系统(CVD)
产品概述
产品特点
PRODUCTFEATURE
产品集成度高,自动化控制
PLC编程,可视化显示设置
完善的安全互锁设计和警示系统
产品规格
PRODUCTPARAMETER
产品型号 | QY- CVD |
设备类型 | 单体机 |
极限真空 | 5×10⁻⁴Pa |
真空系统配置 | 扩散泵/分子泵/低温泵+(罗茨泵)+旋片泵/螺杆泵 |
工件夹具 | 平面 |
烘烤温度 | ≤600℃ |
镀膜厚度 | ≤500nm |
电极 | 板式 |
电源 | 射频 |