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真空镀膜解决方案

化学气相沉积系统(CVD)


产品概述

QY-CVD系列化学气相沉积系统是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。

产品特点
PRODUCTFEATURE
  1. 产品集成度高,自动化控制

  2. PLC编程,可视化显示设置

  3. 完善的安全互锁设计和警示系统

产品规格
PRODUCTPARAMETER
产品型号QY- CVD
设备类型单体机
极限真空5×10⁻⁴Pa
真空系统配置扩散泵/分子泵/低温泵+(罗茨泵)+旋片泵/螺杆泵
工件夹具平面
烘烤温度≤600℃
镀膜厚度≤500nm
电极板式
电源射频