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真空镀膜解决方案

离子源电子束辅助、蒸发系统(EB-PVD)


产品概述

热障涂层电子束镀膜机采用立式方箱式结构,侧开门,全不锈钢材质。真空室底板安装蒸镀源、气动挡板等,真空室预留数个备用孔。真空室内部安装一套防污衬板。整体采用分体结构,真空室安装左侧,电控柜在右侧,美观大方。

产品特点
PRODUCTFEATURE
  1. 高功率电子枪可制备三氧化二铝、氧化锆等陶瓷隔热涂层

  2. 基片加热温度可达1000℃,镀膜厚度可达数百纳米

产品规格
PRODUCTPARAMETER
产品型号QY- EB-PVD
设备类型单体机
极限真空2×10⁻⁴Pa
真空系统配置扩散泵/分子泵/低温泵+(罗茨泵)+旋片泵/螺杆泵
工件夹具球面、平面、行星
基片加热温度≤1000℃
镀膜厚度≤500nm
加热源皮尔斯电子枪
蒸镀源电子枪