QY-SPD系列磁控溅射镀膜系统采用直流/脉冲溅射、中频溅射、射频溅射等成膜方式,可独立或共同溅射。可用于科研单位研制开发薄膜工艺、新材料薄膜、合金材料薄膜、高低温环境下生长薄膜的实验镀膜产品,也可用于制备金属、导磁材料、陶瓷、介质材料等。
真空镀膜解决方案
磁控溅射系统
产品概述
产品特点
PRODUCTFEATURE
产品集成度高,自动化控制
PLC编程,可视化显示设计
定制化工艺,制程灵活
工艺过程全监控,数据可存储、历史可查询
完善的安全互锁设计和警示系统
产品规格
PRODUCTPARAMETER
极限真空 | 8×10⁻⁴Pa |
真空系统配置 | 分子泵/低温泵+(罗茨泵)+旋片泵/螺杆泵 |
烘烤温度 | ≤300℃ |
控温精度 | ±1℃ |
溅射源 | 圆形平面靶、矩形平面靶、旋转靶 |
溅射方式 | 直流、脉冲、中频、射频 |
镀膜均匀性 | ≤±5% |