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真空镀膜解决方案

磁控溅射系统


产品概述

QY-SPD系列磁控溅射镀膜系统采用直流/脉冲溅射、中频溅射、射频溅射等成膜方式,可独立或共同溅射。可用于科研单位研制开发薄膜工艺、新材料薄膜、合金材料薄膜、高低温环境下生长薄膜的实验镀膜产品,也可用于制备金属、导磁材料、陶瓷、介质材料等。

产品特点
PRODUCTFEATURE
  1. 产品集成度高,自动化控制

  2. PLC编程,可视化显示设计

  3. 定制化工艺,制程灵活

  4. 工艺过程全监控,数据可存储、历史可查询

  5. 完善的安全互锁设计和警示系统

产品规格
PRODUCTPARAMETER
极限真空8×10⁻⁴Pa
真空系统配置分子泵/低温泵+(罗茨泵)+旋片泵/螺杆泵
烘烤温度≤300℃
控温精度±1℃
溅射源圆形平面靶、矩形平面靶、旋转靶
溅射方式直流、脉冲、中频、射频
镀膜均匀性≤±5%