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原位SEM产品

  

等离子体化学气相沉积设备
真空与镀膜产品  
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设备包括,石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射 频电源系统、PLC控制系统,设备分为加热区和等离子体放电区。 电源范围:0-500W可调, 温度范围:室温-1200度可调,射频放电 范围:0-600mm可调,极限真空:0.1Pa。主要进行氧化物、氮化物 纳米结构的可控气氛生长,石墨烯等各类纳米材料,纳米薄膜的制 备与合成。

1.可根据需制备不同纳米结构或薄膜的工艺分别选择PECVE、CVD工作方式
2.制备纳米结构或薄膜均匀性、重复性好、成分和厚度易于控制。
3.控制系统为PLC全自动化触摸屏,屏幕集成了真空显示仪、流量计显示仪,PID温控模块、射频电源通
讯等,可记录实验数据,且配备了自动匹配电源,操作简捷方便。
4.石英管容易拆卸和更换清洗,样品放置简单易操作。

1.可根据需制备不同纳米结构或薄膜的工艺分别选择PECVE、CVD工作方式
2.制备纳米结构或薄膜均匀性、重复性好、成分和厚度易于控制。
3.控制系统为PLC全自动化触摸屏,屏幕集成了真空显示仪、流量计显示仪,PID温控模块、射频电源通
讯等,可记录实验数据,且配备了自动匹配电源,操作简捷方便。
4.石英管容易拆卸和更换清洗,样品放置简单易操作。