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离子束(源)
真空与镀膜产品  
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在真空条件下,先将引入的气体电离,再由负极引出阳离子经加速、聚焦等步骤,获得具有一定速度的离子束。离子束的装置主要由包括离子源、真空系统、控制系统和电源等。

由于离子带正电荷,其质量比电子大,所以离子束比电子束具有更大的撞击动能,该离子源和离子束装置可配置在各类表面处理或镀膜设备中,广泛应用于材料表面处理和加工,如离子源辅助增强镀膜,离子源表面清洗,超光滑表面加工,离子束样品减薄、离子束打孔、离子束刻蚀、离子束溅射金属膜等。

1.离子源和离子束结构紧凑,可以根据客户需求定制;
2.离子源和离子束能量调节范围广;
3.离子源表面抛光或辅助镀膜加工应力、热变形小、加工精密度高;
4.离子源工作稳定,质量可靠。