原子层沉积系统ALD

MINI-TALD8 ALD


用于样品亲水性,润湿性处理,样品表面改性。

等离子体样品处理仪

技术参数

  • 射频功率:射频自动匹配功能,0-75W,连续可调节
  • 射频频率:13.56MHz
  • 最大样品处理尺寸:4英寸